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593-90-8
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三甲基硼的制备
目前,非晶硅太阳能电池生产线主要用乙硼烷或者三甲基硼做掺杂剂。使用乙硼烷做掺杂剂时,材料的暗电导率和光学带隙相互 制约的现象较为严重,主要是因为乙硼烷分子结构中存在B-B键和B-H键,在气相沉积过程中,这些键的结构容易生长在薄膜材料中,导致材料缺陷态密度较高,电导率的增加抑制了光学带隙的增加。
2020/10/23 9:04:26
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