7783-58-6
中文名称
四氟化锗
英文名称
GERMANIUM(IV) FLUORIDE
CAS
7783-58-6
EINECS 编号
232-011-3
分子式
F4Ge
MDL 编号
MFCD00042536
分子量
148.63
MOL 文件
7783-58-6.mol
更新日期
2023/12/13 22:28:32
7783-58-6 结构式
基本信息
中文别名
四氟化锗四氟化鍺
氟化锗
英文别名
GERMANIUM FLUORIDEGERMANIUM(IV) FLUORIDE
GERMANIUM TETRAFLUORIDE
GeF4
Germane, tetrafluoro-
tetrafluoro-german
tetrafluorogermane
GERMANIUM(IV) FLUORIDE, 99.9+%, ELECTRON IC GRADE
GERMANIUM(IV) FLUORIDE CYL. WITH 50 G
Germanium tetrafluoride 99%
Germaniumtetrafluoride99%
Germanium(IV) tetrafluoride
所属类别
有机原料：有机锗物理化学性质
熔点−36.5 °C(lit.)
沸点-36,5°C
密度2.126 g/mL at 0 °C(lit.)
溶解度reacts with H2O
形态无色气体
比重2.126
颜色无色
水溶解性soluble H2O [CRC10]
水解敏感性8: reacts rapidly with moisture, water, protic solvents
Merck13,4423
EPA化学物质信息Germane, tetrafluoro- (7783-58-6)
常见问题列表
理化性质
四氟化锗（GeF4）是一种锗的氟化物，分子量为148.63，无色、辛辣大蒜气味气体，空气中遇水产生大量白烟。常态下四氟化锗性质稳定，在水中发生水解，生成GeO2和H2GeF6。3GeF4+2H2O→GeO2+2H2GeF6。与无水氯化铝反应，交换了卤素之后生成四氯化锗。完全干燥的四氟化锗气体，不侵蚀玻璃，但能腐蚀汞和润滑脂。四氟化锗在半导体行业中用于掺杂和离子注入。四氟化锗结合乙硅烷气体，可以直接在玻璃基底上制造硅锗微晶。用途
四氟化锗在半导体行业中用于掺杂和离子注入。四氟化锗结合乙硅烷气体，可以直接在玻璃基底上制造硅锗微晶。四氟化锗在化学工业中还可用于合成剂。合成方法
(1)把氧化锗与过量的氟化钙及浓硫酸加热。 (2)六氟锗酸钡的热分解。 BaGeF6→BaF2+GeF4 把生成的气体用液体二硫化碳冷却到-112℃，除去挥发性杂质。