三氟碘甲烷（CF3I）作为半导体刻蚀气体用于3D NAND Flash先进制程，与同种刻蚀气体CF4，C4F6相比，三氟碘甲烷（CF3I）具有高选择性和高深宽比。它作为电气设备绝缘与灭弧气体用于温室气体SF6的替代，绝缘强度大约为SF6的1.23倍以上，击穿分解后不会产生有毒产物；它作为灭火剂主要用于哈龙灭火剂的替代，具有灭火效率高、安全性能好、经济效用高、灭火后不留痕迹等特点；它作为制冷剂主要用于传统氟利昂制冷剂CFCs、HCFCs、HFCs的替代，具有不燃、油溶性和材料相容性很好的特点，已被联合国列入第3代环保制冷剂的主要组元。
此外，三氟碘甲烷还能与有机金属试剂作用，是有机合成中引入氟代甲基的重要含氟中间体，可广泛应用于有机合成、生物化学、农药、医药、表面活性剂和染料等领域。
三氟碘甲烷，又称三氟甲基碘(以下称CF3I)，分子式CF3I，代号FIC-13I1、Freon13I1、R–1311。其环保特性优异：ODP值为在0.0001以下，GWP值为1，大气寿命小于1.2天。具备安全性好，无毒、阻燃、油溶性和材料相容性好等特点。
目前，三氟碘甲烷的生产、纯化技术一直由发达国家化学品公司垄断，严重依赖进口，受控于国际市场，价格高，订货周期长、运输困难。国内三氟碘甲烷的研究、生产尚处于初步阶段。伴随着国际环保公约阶段性强制推行，国内对温室气体减排要求提高，低GWP气体CF3I备受推崇，随着CF3I的应用开发日益增加，作为灭火剂、混合制冷成分、刻蚀剂、绝缘气体、含氟中间体等使用，其市场需求明显增加，国产化规模生产技术的开发日益迫切。